Chung-Hua University Repository:Item 987654321/41026
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 8557/14866 (58%)
造访人次 : 1404980      在线人数 : 861
RC Version 6.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 查询小技巧:
  • 您可在西文检索词汇前后加上"双引号",以获取较精准的检索结果
  • 若欲以作者姓名搜寻,建议至进阶搜寻限定作者字段,可获得较完整数据
  • 进阶搜寻
    主页登入上传说明关于CHUR管理 到手机版


    jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://chur.chu.edu.tw/handle/987654321/41026


    题名: 半導體加熱系統與可程式溫度控制之研究
    作者: 蔡博章
    Tsai, Bor-Jang
    贡献者: 機械工程學系
    Mechanical Engineering
    关键词: 半導體;PID 控制
    半導體;PID 控制
    日期: 2005
    上传时间: 2014-07-25 13:47:42 (UTC+8)
    摘要: 展新的工業技術隨著科技產業急速發展,及科技材料之應用,因此新產品設計開發講求輕、薄、短、小的目標。本文重點在於以半導體加熱系統與可程式溫度控制之研究,經由對所完成的系統作一連串的測試,結果顯示耗電量110V / 400W之半導體加熱系統回授溫度與記憶功能控制相當穩定,電磁波輻射(EMI)在0.2毫高斯以下,本研究電熱板—首先溫度產生開口向左之ㄇ字型熱分佈(Pattern),使特定模型做測試並以七段不同時間與溫度之模型來驗證 PID可程式溫度控制之穩定度及可回授性,系統測試結果溫度誤差皆在±0.5℃誤差範
    展新的工業技術隨著科技產業急速發展,及科技材料之應用,因此新產品設計開發講求輕、薄、短、小的目標。本文重點在於以半導體加熱系統與可程式溫度控制之研究,經由對所完成的系統作一連串的測試,結果顯示耗電量110V / 400W之半導體加熱系統回授溫度與記憶功能控制相當穩定,電磁波輻射(EMI)在0.2毫高斯以下,本研究電熱板—首先溫度產生開口向左之ㄇ字型熱分佈(Pattern),使特定模型做測試並以七段不同時間與溫度之模型來驗證 PID可程式溫度控制之穩定度及可回授性,系統測試結果溫度誤差皆在±0.5℃誤差範圍
    显示于类别:[機械工程學系] 研討會論文

    文件中的档案:

    档案 描述 大小格式浏览次数
    半導體加熱系統與可程式溫度控制之研究.pdf49KbAdobe PDF137检视/开启


    在CHUR中所有的数据项都受到原著作权保护.


    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回馈