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    題名: The implementation of neural network for semiconductor PECVD process
    作者: 鄧維兆
    Deng, Wei-Jaw
    貢獻者: 餐旅管理學系
    Hospitality Management
    關鍵詞: Quality predictor;Plasma-enhanced chemical vapor deposition;PECVD;Back-propagation neural network;Taguchi method;Silicon dioxide films
    日期: 2007
    上傳時間: 2014-06-27 15:02:52 (UTC+8)
    摘要: In semiconductor manufacturing, the monitoring system has been developed very excellently and can be used for comprehensively
    collecting the historical data of process information and quality characteristics of equipment. However, due to the high turnover
    顯示於類別:[餐旅管理學系] 期刊論文

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