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    題名: Resistance switching in the Ni/HfOx/Ni nonvolatile memory device with interfacial layer by mixed CF4/O2 plasma treatment
    作者: 賴瓊惠
    Lai, Chiung-Hui
    貢獻者: 電子工程學系
    Electronics Engineering
    關鍵詞: 電阻切換;電漿處理
    Resistance switching;plasma treatment
    日期: 2011
    上傳時間: 2014-06-27 02:29:49 (UTC+8)
    摘要: 鎳/氧化铪/鎳經過電漿處理後的電阻切換
    Resistance random access memory (ReRAM) is a promising candidate for nonvolatile memories applications due to its adventages, such as simple structure, rapid operation and high density integration. However, for ReRAM device, the stable resistance changes
    顯示於類別:[電子工程學系] 研討會論文

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