Chung-Hua University Repository:Item 987654321/32089
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    题名: The Sub-Micron Hole Array in Sapphire Produced by Inductively-Coupled Plasma Reactive Ion Etching
    作者: 馬廣仁
    Ma, Kung-Jen
    贡献者: 工程科學博士學位學程
    Ph.D. Program in Engineering Science
    关键词: Al2O3;Sub-Micron Hole Array;ICP-RIE;Polystyrene Nanosphere
    日期: 2012
    上传时间: 2014-06-27 01:44:06 (UTC+8)
    摘要: The sub-micron hole array in a sapphire substrate was fabricated by using nanosphere lithography
    (NSL) combined with inductively-coupled-plasma reactive ion etching (ICP-RIE) technique.
    Polystyrene nanospheres of about 600 nm diameter were self-assembled
    显示于类别:[工程科學博士學位學程 ] 期刊論文

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