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    題名: Nitrogen Depletion Behavior of High-Nitrogen Oxynitride Films After Reoxidation with O2 and N2O treatment
    作者: 賴瓊惠
    Lai, Chiung-Hui
    貢獻者: 電子工程學系
    Electronics Engineering
    關鍵詞: 含氮氧化層;快速熱氧化;氮空乏;再氧化
    oxynitride;rapid thermal oxidation;nitrogen depletion;nitrous oxide;reoxidation
    日期: 2009
    上傳時間: 2014-07-01 10:30:27 (UTC+8)
    摘要: 探討高含氮含氮氧化層在O2或和N2O的再氧化處理之後的氮空乏行為
    We investigated the nitrogen depletion behavior of high nitrogen oxynitride after O2 or N2O reoxidation in a rapid thermal furnace. We observed that the nitrogen concentration decreased in both cases, and the nitrogen distribution moved toward the SiO2/Si
    顯示於類別:[電子工程學系] 期刊論文

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