Nickel Nanocrystals Embedded in Metal–Alumina–Nitride–Oxide–Silicon Type Low-Temperature Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistor
for Low-Voltage Nonvolatile Memory Application

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題名:	Nickel Nanocrystals Embedded in Metal–Alumina–Nitride–Oxide–Silicon Type Low-Temperature Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistor for Low-Voltage Nonvolatile Memory Application
作者:	謝英家 Hsieh, Ing-Jar
貢獻者:	電機工程學系 Electrical Engineering
關鍵詞:	nickel nanocrystal and thin-film transistor
日期:	2011
上傳時間:	2014-06-27 02:38:05 (UTC+8)
摘要:	In this work, a nickel nanocrystal (Ni-NC) assisted metal–alumina–nitride–oxide–silicon (MANOS) thin-film transistor (TFT) nonvolatile memory (NVM) was fabricated by a standard low temperature polycrystalline silicon (LTPS) TFT process. The size range and
顯示於類別:	[電機工程學系] 期刊論文

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